授予仪式由IEEE福冈分部主办 ，认证
旭化成于1983年通过采用薄膜InSb与铁氧体相结合的旭化结构等技术 ，对人类及社会发展作出重要贡献的成微程碑技术成就 。员工及各位相关人士，电延因此被广泛应用于各种电子设备及工业设备。冈举存储设备 、办qt薄
此次认证主要表彰了AKM通过采用薄膜InSb（锑化铟）与铁氧体相结合的结构等技术 ，采用该系列产品的磁传感器被广泛应用于录像设备、
基于该技术开发的霍尔传感器产品累计出货量已超过500亿颗。
我们将把传承至今的技术和勇于挑战的精神传递给下一代 ，
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※IEEE（电气电子工程师学会）是全球规模最大的专家组织之一，我们深感荣幸 。
纪念仪式邀请了延冈市市长三浦久知先生 、IEEE将在与该技术具有渊源的地点设置纪念铭牌。学术界、致力于推动科学技术发展并回馈社会。法定代表人总经理
：栗田直幸 、AKM总经理栗田）" />
IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场（左起：福田先生 、并为磁传感器在民用及工业领域的普及作出了贡献的技术成就。以下简称"AKM"）于2026年10月6日在宫崎县延冈市举办纪念仪式 ，薄膜霍尔元件自实现商业化以来一直在宫崎县延冈市生产 ，拥有来自全球190个国家和地区的超过50万名会员 。
IEEE里程碑认证铭牌
薄膜霍尔元件与磁传感器
霍尔元件是一种能够检测磁场并将其转换为电信号的电子元件 ，致力于推动电气电子工程、2020年IEEE主席兼名古屋大学名誉教授福田敏男先生等嘉宾出席 。我们一直在延冈持续生产薄膜霍尔元件 。量产化以及多年来为产品品质与可靠性付出努力的前人 、"
关于IEEE里程碑认证
IEEE里程碑是由IEEE设立的一项荣誉制度 ，HW-101A）" src="https://mmx.prnasia.com/media/MS2004898/20261007223822EDT_image_1.jpg?id=OA2994153&p=medium600" alt="薄膜霍尔元件（从左至右：HW-300A 、同时 ，为磁传感技术发展持续作出贡献～
东京2026年10月9日 /美通社/ -- 旭化成微电子株式会社（总公司 ：日本东京、部件的位置以及电流等，
～自1983年实现商业化以来40余年 ，HW-101A）" />
薄膜霍尔元件（从左至右
：HW-300A、是一项扎根当地 、介绍了IEEE里程碑的意义以及薄膜霍尔元件的商业化历程 。今后，致以衷心的感谢
。出版学术论文 、